Pre-training CNN for fast EUV lithography simulation including M3D effects
抄録
identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:50691890
収録刊行物
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- Proc. SPIE 12954, DTCO and Computational Patterning III, 129540I
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Proc. SPIE 12954, DTCO and Computational Patterning III, 129540I 2024-04
Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE)
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1050862853910240000
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- 本文言語コード
- en
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- 資料種別
- conference paper
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- データソース種別
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- IRDB