Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California

CiNii 所蔵館 2館

書誌事項

タイトル
"Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California"
責任表示
Luc Van den hove chair/editor ; sponsored and published by SPIE--the International Society for Optical Engineering ; Cooperating organizations SEMI-Semiconductor Equipment and Materials International SEMATECH
出版者
  • SPIE
出版年月
  • c1998
書籍サイズ
28 cm

この図書・雑誌をさがす

注記

Includes bibliographical references and index

関連図書・雑誌

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130000794193332864
  • NII書誌ID
    BA37525413
  • ISBN
    0819427799
  • 本文言語コード
    en
  • 出版国コード
    us
  • タイトル言語コード
    en
  • 出版地
    • Bellingham, Wash., USA
  • データソース種別
    • CiNii Books
ページトップへ