真空紫外光励起化学反応による半導体表面清浄化プロセスの開発

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書誌事項

タイトル
"真空紫外光励起化学反応による半導体表面清浄化プロセスの開発"
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研究代表者 広瀬全孝
出版者
  • [広瀬全孝]
出版年月
  • 1987.3
書籍サイズ
26cm
タイトル別名
  • シンクウ シガイコウ レイキ カガク ハンノウ ニ ヨル ハンドウタイ ヒョウメン セイジョウカ プロセス ノ カイハツ

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注記

研究課題番号: 59850052

参考文献あり

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130000794582290560
  • NII書誌ID
    BB23500127
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    ja
  • 出版地
    • [東広島]
  • データソース種別
    • CiNii Books
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