PVD for microelectronics : sputter deposition applied to semiconductor manufacturing
書誌事項
- タイトル
- "PVD for microelectronics : sputter deposition applied to semiconductor manufacturing"
- 責任表示
- Ronald A. Powell, Stephen M. Rossnagel
- 出版者
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- Academic Press
- 出版年月
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- c1999
- 書籍サイズ
- 24 cm
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注記
Includes bibliographical references and indexes
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000795220249216
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- NII書誌ID
- BA38746553
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- ISBN
- 012533026X
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- LCCN
- 98028495
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/98028495
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- San Diego ; Tokyo
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- 分類
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- LCC: TK7872.T55
- DC21: 621.3815/2
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- 件名
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- LCSH: Thin film devices -- Design and construction
- LCSH: Vapor-plating
- LCSH: Thin films
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- データソース種別
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- CiNii Books
