シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 = Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation

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Bibliographic Information

Title
"シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 = Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation"
Statement of Responsibility
白石賢二研究代表者
Publisher
  • 白石賢二
Publication Year
  • 2004.5
Book size
30cm
Other Title
  • シリコン ネツサンカ ノ カイメン ソカテイ ニ カンスル リロンテキ ケンキュウ

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Notes

研究課題番号: 14550020

研究代表者: 白石賢二

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1130000795241927296
  • NII Book ID
    BA68545470
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [つくば]
  • Data Source
    • CiNii Books
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