書誌事項
- タイトル
- "Plasma processes for semiconductor fabrication"
- 責任表示
- W.N.G. Hitchon
- 出版者
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- Cambridge University Press
- 出版年月
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- 1999
- 書籍サイズ
- 26 cm
- シリーズ名/番号
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- : hardback
- : pbk
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注記
Includes bibliographical references (p. 205-211) and index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000795428036480
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- NII書誌ID
- BA40981104
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- ISBN
- 0521591759
- 0521018005
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- LCCN
- 98011717
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/98011717
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- uk
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Cambridge ; New York
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- 分類
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- LCC: TK7871.85
- DC21: 621.3815/2
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- 件名
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- LCSH: Semiconductors -- Etching
- LCSH: Plasma etching
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- データソース種別
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- CiNii Books
