極微細溝への酸化膜の選択成長法の開発とギガビットメモリ配線への応用
CiNii
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Bibliographic Information
- Title
- "極微細溝への酸化膜の選択成長法の開発とギガビットメモリ配線への応用"
- Statement of Responsibility
- 研究代表者 広瀬全孝
- Publisher
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- [広瀬全孝]
- Publication Year
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- 1995.3
- Book size
- 30cm
- Other Title
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- ゴクビサイコウ エノ サンカマク ノ センタク セイチョウホウ ノ カイハツ ト ギガビット メモリ ハイセン エノ オウヨウ
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Notes
[研究課題番号: 04555071]
研究代表者: 広瀬全孝(広島大学工学部教授)
研究分担者: 宮崎誠一, 林俊雄, 小谷秀夫
文献あり
課題番号: 04555071(科学研究費助成事業データベースによる)
表紙に課題番号0455071とあり(誤植)
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1130000796560905344
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- NII Book ID
- BB27336910
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- Country Code
- ja
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- Title Language Code
- ja
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- Place of Publication
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- [東広島]
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- Data Source
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- CiNii Books