最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
CiNii
所蔵館 5館
書誌事項
- タイトル
- "最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術"
- 責任表示
- 河合晃監修
- 出版者
-
- シーエムシー出版
- 出版年月
-
- 2017.9
- 書籍サイズ
- 26cm
- タイトル別名
-
- サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
- Advanced technologies for functional resist materials and process optimization
- High technology information
この図書・雑誌をさがす
注記
文献: 各章末
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1130000796646134784
-
- NII書誌ID
- BB24934053
-
- ISBN
- 9784781312637
-
- 本文言語コード
- ja
-
- 出版国コード
- ja
-
- タイトル言語コード
- ja
-
- 出版地
-
- 東京
-
- データソース種別
-
- CiNii Books
- KAKEN