高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成

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Bibliographic Information

Title
"高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成"
Statement of Responsibility
和泉亮研究代表
Publisher
  • [九州工業大学]
Publication Year
  • 2007.4
Book size
30cm
Other Title
  • コウミツド ラジカル ショリホウ ニヨル キバン ヒョウメン ノ チョウシンスイカ ト コウヒンシツ ゼツエンマク ノ ケイセイ

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Notes

課題番号: 17560009

平成17年度～平成18年度科学研究費補助金(基盤研究(C))研究成果報告書

参考文献: 各論末

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1130000798248593792
  • NII Book ID
    BB06074645
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [北九州]
  • Data Source
    • CiNii Books
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