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III-V族化合物半導体デバイスプロセスにおけるAIN絶縁膜の応用に関する研究
CiNii
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Bibliographic Information
- Title
- "III-V族化合物半導体デバイスプロセスにおけるAIN絶縁膜の応用に関する研究"
- Other Title
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- III-Vゾク カゴウブツ ハンドウタイ デバイス プロセス ニ オケル AINゼツエンマク ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
- Statement of Responsibility
- 工藤昌宏[著]
- Publisher
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- 工藤昌宏
- Publication Year
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- 2012.3
- Book size
- 31cm
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Notes
博士論文(北陸先端科学技術大学院大学 , 2012 , 博材第312号)
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1130282268830438784
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- NII Book ID
- BB19218577
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- Text Lang
- ja
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- Country Code
- ja
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- Title Language Code
- ja
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- Place of Publication
-
- [能美]
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- Data Source
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- CiNii Books