IV族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究

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Bibliographic Information

Title
"IV族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究"
Statement of Responsibility
研究代表者 吉田貞史
Publisher
  • [吉田貞史]
Publication Year
  • 2003.3
Book size
30cm
Other Title
  • IVゾク ハンドウタイ ノ キョクハク サンカマク ノ カイメン ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ

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Notes

研究課題番号13450120

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1130282269014477952
  • NII Book ID
    BA63513444
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [さいたま]
  • Data Source
    • CiNii Books
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