メタルゲート/高誘電率金属酸化物ゲート絶縁膜スタック構造の真空一貫原子層成長
CiNii
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Bibliographic Information
- Title
- "メタルゲート/高誘電率金属酸化物ゲート絶縁膜スタック構造の真空一貫原子層成長"
- Statement of Responsibility
- 研究代表者 中島 安理
- Publisher
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- 広島大学ナノデバイス・システム研究センター
- Publication Year
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- 2005.3
- Book size
- 30cm
- Other Title
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- メタルゲート コウユウデンリツ キンゾク サンカブツ ゲート ゼツエンマク スタック コウゾウ ノ シンクウ イッカン ゲンシソウ セイチョウ
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Notes
課題番号: 13450129
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1130282271236505856
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- NII Book ID
- BA74511258
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- Country Code
- ja
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- Title Language Code
- ja
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- Place of Publication
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- 東広島
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- Data Source
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- CiNii Books