レーザーアブーションによる半導体薄膜作製と時間分解構造測定 = Fabrication of semiconductor films by laser ablation and time-resolved structure measurements

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Bibliographic Information

Title
"レーザーアブーションによる半導体薄膜作製と時間分解構造測定 = Fabrication of semiconductor films by laser ablation and time-resolved structure measurements"
Statement of Responsibility
村上浩一研究代表者
Publisher
  • [村上浩一]
Publication Year
  • 1999.3
Book size
30cm
Other Title
  • レーザーアブレーション ニヨル ハンドウタイ ハクマク サクレツ ト ジカン ブンカイ コウゾウ ソクテイ

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Notes

課題番号: 09044131

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1130282272966703488
  • NII Book ID
    BA47631461
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [つくば]
  • Data Source
    • CiNii Books
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