よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み : シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰

CiNii 所蔵館 105館

書誌事項

タイトル
"よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み : シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰"
責任表示
佐藤淳一著
出版者
  • 秀和システム
  • 第4版
出版年月
  • 2020.9
書籍サイズ
21cm
タイトル別名
  • ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ : シリコン ガ ハンドウタイ ニ ナル セイゾウ コウテイ オ フカン
  • 図解入門よくわかる : 最新半導体プロセスの基本と仕組み
  • 半導体プロセスの基本と仕組み : よくわかる最新 : シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰
  • 図解入門よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み

この図書・雑誌をさがす

注記

参考文献: p247

関連図書・雑誌

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130286432399274368
  • NII書誌ID
    BC02315587
  • ISBN
    9784798062457
  • 本文言語コード
    ja
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    ja
  • 出版地
    • 東京
  • 分類
  • 件名
  • データソース種別
    • CiNii Books
ページトップへ