最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

Medical*Online 2024.8. CiNii Available at 14 libraries

Bibliographic Information

Title
"最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術"
Statement of Responsibility
河合晃監修
Publisher
  • シーエムシー出版
  • 普及版
Publication Year
  • 2024.8
Book size
26cm
Other Title
  • サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
  • Advanced technologies for functional resist materials and process optimization

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Notes

2017年刊の普及版

文献: 章末

背に「TL840」とあり

奥付・背・裏表紙に「B1438」とあり

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