Polysilicon growth kinetics in a low pressure chemical vapour deposition reactor
書誌事項
- 公開日
- 1979-05
- 権利情報
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- https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
- DOI
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- 10.1016/0040-6090(79)90296-7
- 公開者
- Elsevier BV
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収録刊行物
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- Thin Solid Films
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Thin Solid Films 59 (2), 231-247, 1979-05
Elsevier BV
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1360016869756952192
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- NII論文ID
- 30006189224
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- ISSN
- 00406090
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- データソース種別
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- Crossref
- CiNii Articles
