All‐Around SiN Stressor for High and Homogeneous Tensile Strain in Germanium Microdisk Cavities
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- Abdelhamid Ghrib
- Institut d'Electronique Fondamentale CNRS‐Université Paris Sud F‐91405 Orsay France
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- Moustafa El Kurdi
- Institut d'Electronique Fondamentale CNRS‐Université Paris Sud F‐91405 Orsay France
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- Mathias Prost
- Institut d'Electronique Fondamentale CNRS‐Université Paris Sud F‐91405 Orsay France
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- Sébastien Sauvage
- Institut d'Electronique Fondamentale CNRS‐Université Paris Sud F‐91405 Orsay France
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- Xavier Checoury
- Institut d'Electronique Fondamentale CNRS‐Université Paris Sud F‐91405 Orsay France
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- Grégoire Beaudoin
- Laboratoire de Photonique et de Nanostructures CNRS‐UPR 20, Route de Nozay 91460 Marcoussis France
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- Marc Chaigneau
- Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces CNRS Ecole polytechnique F‐91128 Palaiseau France
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- Razvigor Ossikovski
- Laboratoire de Physique des Interfaces et des Couches Minces CNRS Ecole polytechnique F‐91128 Palaiseau France
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- Isabelle Sagnes
- Laboratoire de Photonique et de Nanostructures CNRS‐UPR 20, Route de Nozay 91460 Marcoussis France
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- Philippe Boucaud
- Institut d'Electronique Fondamentale CNRS‐Université Paris Sud F‐91405 Orsay France
収録刊行物
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- Advanced Optical Materials
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Advanced Optical Materials 3 (3), 353-358, 2015-01-02
Wiley