TiO2 thin film growth using the MOCVD method
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- M.I.B. Bernardi
- Universidade Federal de São Carlos, Brasil
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- E.J.H. Lee
- Universidade Federal de São Carlos, Brasil
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- P.N. Lisboa-Filho
- Universidade Federal de São Carlos, Brasil
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- E.R. Leite
- Universidade Federal de São Carlos, Brasil
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- E. Longo
- Universidade Federal de São Carlos, Brasil
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- J.A Varela
- Universidade Estadual Paulista, Brasil
Journal
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- Materials Research
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Materials Research 4 (3), 223-226, 2001-07
FapUNIFESP (SciELO)
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1360579816991321856
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- ISSN
- 15161439
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- Data Source
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- Crossref