Si-doped <i>β</i>-(Al<sub>0.26</sub>Ga<sub>0.74</sub>)<sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films and heterostructures grown by metalorganic vapor-phase epitaxy
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収録刊行物
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- Applied Physics Express
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Applied Physics Express 12 (11), 111004-, 2019-10-15
IOP Publishing
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1360847874813475072
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- NII論文ID
- 210000157360
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- ISSN
- 18820786
- 18820778
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- データソース種別
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- Crossref
- CiNii Articles