On chemo-mechanical polishing (CMP) of silicon nitride (Si3N4) workmaterial with various abrasives

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書誌事項

公開日
1998-09
権利情報
  • https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
DOI
  • 10.1016/s0043-1648(98)00245-2
公開者
Elsevier BV

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収録刊行物

  • Wear

    Wear 220 (1), 59-71, 1998-09

    Elsevier BV

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