Epitaxial growth of copper oxide films by reactive cross-beam pulsed-laser deposition
書誌事項
- 公開日
- 2009-06
- 権利情報
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- https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
- DOI
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- 10.1016/j.jcrysgro.2009.03.047
- 公開者
- Elsevier BV
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収録刊行物
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- Journal of Crystal Growth
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Journal of Crystal Growth 311 (12), 3352-3358, 2009-06
Elsevier BV