Characteristics of p-channel MOS field effect transistors with ion-implanted channels
書誌事項
- 公開日
- 1972-11
- 権利情報
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- https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
- DOI
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- 10.1016/0038-1101(72)90044-5
- 公開者
- Elsevier BV
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収録刊行物
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- Solid-State Electronics
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Solid-State Electronics 15 (11), 1237-1243, 1972-11
Elsevier BV