Extension of 193-nm immersion optical lithography to the 22-nm half-pitch node

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• CRID

  1361418519856571392

• DOI

  10.1117/12.536798

• ISSN

  0277786X

• Web Site

  http://proceedings.spiedigitallibrary.org/proceeding.aspx?doi=10.1117/12.536798

• データソース種別

  • Crossref