Deposition and properties of titanium nitride films produced by dc reactive magnetron sputtering
書誌事項
- 公開日
- 1995-03
- 権利情報
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- https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
- DOI
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- 10.1016/0042-207x(94)00052-2
- 公開者
- Elsevier BV
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収録刊行物
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- Vacuum
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Vacuum 46 (3), 233-239, 1995-03
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