Pressure dependence of the metal-insulator transition in the charge-transfer oxides<i>R</i><mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">NiO</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>3</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>(<i>R</i>=Pr,Nd,<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">Nd</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>0.7</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math><mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">La</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>0.3</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>)

詳細情報 詳細情報について

• CRID

  1361699994099030016

• DOI

  10.1103/physrevb.47.12353

• ISSN

  10953795

  01631829

• Web Site

  http://link.aps.org/article/10.1103/PhysRevB.47.12353

  http://harvest.aps.org/v2/journals/articles/10.1103/PhysRevB.47.12353/fulltext

• データソース種別

  • Crossref