Inductively coupled plasma reactive ion etching of magnetic tunnel junction stacks using H2O/CH4 mixture
書誌事項
- 公開日
- 2013-11
- 権利情報
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- https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
- https://www.elsevier.com/legal/tdmrep-license
- DOI
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- 10.1016/j.tsf.2013.04.022
- 公開者
- Elsevier BV
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収録刊行物
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- Thin Solid Films
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Thin Solid Films 547 146-150, 2013-11
Elsevier BV