Towards the sub-50nm magnetic device definition: Ion beam etching (IBE) vs plasma-based etching

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書誌事項

公開日
2009-02
権利情報
  • https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
DOI
  • 10.1016/j.vacuum.2008.12.003
公開者
Elsevier BV

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収録刊行物

  • Vacuum

    Vacuum 83 (6), 1007-1013, 2009-02

    Elsevier BV

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