Pulsed Transfer Etching of PS–PDMS Block Copolymers Self-Assembled in 193 nm Lithography Stacks

DOI Web Site 被引用文献1件
  • Cécile Girardot
    Université Grenoble Alpes, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique , F-38000 Grenoble, France
  • Sophie Böhme
    Université Grenoble Alpes, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique , F-38000 Grenoble, France
  • Sophie Archambault
    Université Grenoble Alpes, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique , F-38000 Grenoble, France
  • Mathieu Salaün
    Université Grenoble Alpes, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique , F-38000 Grenoble, France
  • Eddy Latu-Romain
    Université Grenoble Alpes, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique , F-38000 Grenoble, France
  • Gilles Cunge
    Université Grenoble Alpes, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique , F-38000 Grenoble, France
  • Olivier Joubert
    Université Grenoble Alpes, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique , F-38000 Grenoble, France
  • Marc Zelsmann
    Université Grenoble Alpes, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique , F-38000 Grenoble, France

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