Pitch doubling through dual-patterning lithography challenges in integration and litho budgets

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公開日
2007-03-16
DOI
  • 10.1117/12.714278
公開者
SPIE

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  • CRID
    1363670321139960960
  • DOI
    10.1117/12.714278
  • ISSN
    0277786X
  • データソース種別
    • Crossref

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