書誌事項
- タイトル別名
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- Ta2O5 Thin Films on Si Substrate deposited by IBS.
- IBSホウ ニ ヨル Ta2O5 マク ノ シリコンジョウ エ ノ セイマク
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収録刊行物
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- 真空
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真空 36 (3), 383-386, 1993
一般社団法人 日本真空学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204065443712
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- NII論文ID
- 10007959864
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- NII書誌ID
- AN00119871
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- ISSN
- 18809413
- 05598516
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- NDL書誌ID
- 3822779
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDLサーチ
- Crossref
- CiNii Articles