Characterization of Low-Temperature Processed Poly-Si Film Prepared by Excimer Laser Annealing.

DOI Web Site 3 Citations 18 References
  • MATSUO Naoto
    Department of Electrical & Electronic Engineering, Yamaguchi University
  • HAMADA Hiroki
    Microelectronics Research Center, SANYO Electric Co., Ltd.
  • AYA Youichiro
    Microelectronics Research Center, SANYO Electric Co., Ltd.
  • NOUDA Tomoyuki
    Microelectronics Research Center, SANYO Electric Co., Ltd.
  • MIYOSHI Tadaki
    Department of Electrical & Electronic Engineering, Yamaguchi University

Bibliographic Information

Other Title
  • エキシマ・レーザ・アニールにより形成された低温プロセス多結晶Ｓｉのキャラクタリゼーション
  • カイセツ エキシマ レーザ アニール ニ ヨリ ケイセイ サレタ テイオン プロセス タケッショウ Si ノ キャラクタリゼーション

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  • Shinku

    Shinku 42 (8), 741-748, 1999

    The Vacuum Society of Japan

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