表面分析のためのマイクロイオンビーム

  • 小林 明
    株式会社 神戸製鋼所 電子技術研究所

書誌事項

タイトル別名
  • Ion Microbeam System for Surface Analysis
  • ヒョウメン ブンセキ ノ タメノ マイクロイオンビーム

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抄録

  Rutherford Backscattering spectrometry (RBS) and Particle Induced X-ray Emission (PIXE) are well-known techniques of ion beam analysis using MeV energy ions and they are used for material analysis like semiconductors, environmental analysis. RBS/PIXE systems are often relatively large with high energy accelerators, and are not very convenient for practical purposes.<br>   We describe here a new compact RBS/PIXE system with a small accelerator with original ion optics and beam line, which can produce a microprobe with a spot size of about 1 um.<br>

収録刊行物

  • 真空

    真空 50 (9), 558-563, 2007

    一般社団法人 日本真空学会

参考文献 (20)*注記

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