DEMによる2成分電子写真システム現像部における磁気ブラシ挙動解析シミュレータの開発

DOI Web Site
  • 三尾 浩
    (株)けいはんな京都府地域結集型共同研究事業 同志社大学理工学部先端科学技術センター
  • 河村 順平
    同志社大学理工学部化学システム創成工学科
  • 下坂 厚子
    同志社大学理工学部化学システム創成工学科
  • 白川 善幸
    同志社大学理工学部化学システム創成工学科
  • 日高 重助
    同志社大学理工学部化学システム創成工学科

書誌事項

タイトル別名
  • Software Development of Magnetic Brush Simulator in Two-Component Electrophotographic System by DEM
  • DEM ニ ヨル 2 セイブン デンシ シャシン システム ゲンゾウブ ニ オケル ジキ ブラシ キョドウ カイセキ シミュレータ ノ カイハツ

この論文をさがす

抄録

本研究では，DEM（離散要素法，Discrete Element Method）を用い，2成分電子写真システム現像部における磁気ブラシ挙動解析シミュレータの開発を行った．開発現場での活用を目指し，GUI（Graphical User Interface）による初期条件の設定や，一般的に普及していると考えられるJ-MAG Studioによる磁場データをインポートできるようにした．本シミュレーションにおいて，ユーザが変更可能なパラメータは，感光体径・回転速度，現像ロール径・回転速度，および，両者の現像ニップ部での回転方向，キャリア粒子径とその分布，現像ギャップ，磁場強度，摩擦係数，付着力等であり，十分な検討が可能であると考えられる．計算後，ニップ周りのブラシ挙動の可視化，および，感光体表面に与える接触力を得ることができる．本シミュレータの計算時間は，計算粒子数に比例するが，粒子数15000個程度であれば，約半日で終了するため，一晩で検討できる．そのため，十分開発現場で活用できるシミュレータであると考えられる．

収録刊行物

キーワード

詳細情報 詳細情報について

問題の指摘

ページトップへ