Etching Processes of Semiconductor of Si with Atomic Resolution
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- ITAYA Kingo
- Tohoku Univ.
Bibliographic Information
- Other Title
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- シリコンエッチング技術 （１） シリコンエッチングの原子レベル解析
- カイセツ シリコンエッチング ノ ゲンシ レベル カイセキ
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Journal
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- Journal of The Surface Finishing Society of Japan
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Journal of The Surface Finishing Society of Japan 51 (8), 760-766, 2000
The Surface Finishing Society of Japan
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204114079104
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- NII Article ID
- 10006249809
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- NII Book ID
- AN1005202X
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BD3cXlvFSisLw%3D
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- ISSN
- 18843409
- 09151869
- http://id.crossref.org/issn/09151869
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- NDL BIB ID
- 5445587
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
