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- 田川 精一
- 大阪大学産業科学研究所
書誌事項
- タイトル別名
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- 20 Lithography and Radiation Chemistry—Radiation-induced Reaction Mechanisms of Resist Materials—
- リソグラフィと放射線化学 : レジストの放射線化学反応機構
- リソグラフィ ト ホウシャセン カガク : レジスト ノ ホウシャセン カガク ハンノウ キコウ
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説明
<p>半導体の大量生産のための放射線を用いたリソグラフィの歴史,リソグラフィへの放射線化学の貢献,リソグラフィの今後の発展に対する放射線化学への大きな期待を紹介する。</p>
収録刊行物
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- RADIOISOTOPES
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RADIOISOTOPES 66 (11), 549-556, 2017
公益社団法人 日本アイソトープ協会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204155980672
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- NII論文ID
- 130006201428
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- NII書誌ID
- AN00351589
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- ISSN
- 18844111
- 00338303
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- NDL書誌ID
- 028703542
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDLサーチ
- Crossref
- CiNii Articles
- OpenAIRE
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可