Correlation between the Relative Sensitivity Factors and the Sputtering Yields in Glow-Discharge Mass Spectrometry.
-
- SAKA Takashi
- Department of Applied Electronics, Daido Institute of Technology
-
- INOUE Mika
- Research and Development Lab., Daido Steel Co. Ltd.
この論文をさがす
収録刊行物
-
- Analytical Sciences
-
Analytical Sciences 16 (6), 653-655, 2000
社団法人 日本分析化学会
- Tweet
キーワード
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1390001204256979200
-
- NII論文ID
- 10004955316
-
- NII書誌ID
- AA10500785
-
- COI
- 1:CAS:528:DC%2BD3cXksVOitL4%3D
-
- ISSN
- 13482246
- 09106340
-
- NDL書誌ID
- 5380300
-
- 本文言語コード
- en
-
- データソース種別
-
- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles