書誌事項
- タイトル別名
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- Refractive Index Distribution of Resist Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)
- ゲンシカンリョク ケンビキョウ AFM ニ ヨル ビサイ レジスト パターンナイ ノ クッセツリツ ブンプ ノ カイセキ
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抄録
光リソグラフィー技術により作製したレジストパターンの側面には，110～180nm 程度の周期の波形模様が形成される。この波形模様は，パターン露光時の定在波効果に起因して形成される。原子間力顕微鏡 (atomic force microscope: AFM) を用いて，直径 0.61μm，高さ 1.03μm の円筒形レジストパターンを基板上で剥離倒壊させて，パターン側面に形成された波形模様を観察した。波形模様の周期はパターン側面内で異なることより，レジストパターンの高さ方向の屈折率分布を求めた。その結果，屈折率は 1.51～1.79 の範囲で，パターン上部から底部へ向けて徐々に高くなっていることが分かった。これは，ホットプレートを用いた熱処理により，レジストパターン底部の凝集性が高くなったことを反映していると考えられる。この手法により，微小固体内の光学パラメータおよび凝集性を解析することが可能になる。
収録刊行物
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- Journal of The Adhesion Society of Japan
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Journal of The Adhesion Society of Japan 43 (4), 140-143, 2007
一般社団法人 日本接着学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204275969280
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- NII論文ID
- 10023962810
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- NII書誌ID
- AN10341672
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- ISSN
- 21874816
- 09164812
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- NDL書誌ID
- 8784764
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可