書誌事項
- タイトル別名
-
- Refractive Index Distribution of Resist Pattern Analyzed by Atomic Force Microscope (AFM)
- ゲンシカンリョク ケンビキョウ AFM ニ ヨル ビサイ レジスト パターンナイ ノ クッセツリツ ブンプ ノ カイセキ
この論文をさがす
抄録
光リソグラフィー技術により作製したレジストパターンの側面には,110~180nm 程度の周期の波形模様が形成される。この波形模様は,パターン露光時の定在波効果に起因して形成される。原子間力顕微鏡 (atomic force microscope: AFM) を用いて,直径 0.61μm,高さ 1.03μm の円筒形レジストパターンを基板上で剥離倒壊させて,パターン側面に形成された波形模様を観察した。波形模様の周期はパターン側面内で異なることより,レジストパターンの高さ方向の屈折率分布を求めた。その結果,屈折率は 1.51~1.79 の範囲で,パターン上部から底部へ向けて徐々に高くなっていることが分かった。これは,ホットプレートを用いた熱処理により,レジストパターン底部の凝集性が高くなったことを反映していると考えられる。この手法により,微小固体内の光学パラメータおよび凝集性を解析することが可能になる。
収録刊行物
-
- Journal of The Adhesion Society of Japan
-
Journal of The Adhesion Society of Japan 43 (4), 140-143, 2007
一般社団法人 日本接着学会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1390001204275969280
-
- NII論文ID
- 10023962810
-
- NII書誌ID
- AN10341672
-
- ISSN
- 21874816
- 09164812
-
- NDL書誌ID
- 8784764
-
- 本文言語コード
- ja
-
- データソース種別
-
- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
-
- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可