書誌事項
- タイトル別名
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- Preparation of Na 19-Alumina Thin Films by RE-Sputtering and Their Ionic Conduction
- Preparation of Na .BETA.-alumina thin films by RF-sputtering and their ionic conduction.
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説明
高周波ズパッター法によって高いイオン伝導率をもつ溝膜を作成するために,作成条件が生成膜の,微細組成,およびイオン伝導に及ぼす影響を検討した。すぱったー膜のNa濃度は,ターゲットのNa濃度に依存するだけでなく・ターゲットの表面温度に依存するこ とがわかった。これには,スパツター蒸発と並行して起こる,N,aの熱蒸発が原因していると考えられる。一方,スパッター膜の微細組織はパワーとガス圧に依存し,両パラメーターを低く制御することによって非晶質状態の第質薄膜が形成されることがわかった。<BR>h非結晶質膜の結晶化によって実現した無空孔の微細組織と結晶子の優先配向が原因している。非晶質相からβ相への転移のさいに現われる中間生成相のイオン伝導機構をその不定比性との関連で議論した。
収録刊行物
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- 日本化学会誌（化学と工業化学）
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日本化学会誌（化学と工業化学） 1987 (12), 2242-2247, 1987-12-10
公益社団法人 日本化学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204390365312
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- NII論文ID
- 130004158605
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- ISSN
- 21850925
- 03694577
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- データソース種別
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- JaLC
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
