書誌事項
- タイトル別名
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- Removal of Decamethylcyclopentasiloxane by Metal Oxide
- キンゾク サンカブツ ニ ヨル デカメチルシクロペンタシロキサン ノ ジョキョ
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説明
酸素および高濃度水蒸気共存下でのPt/Al2O3触媒による水素酸化反応において，反応ガス中に揮発性低分子シロキサン（デカメチルシクロペンタシロキサン（D5））が存在すると，触媒表面にD5が吸着して水素酸化率が低下した．高い触媒活性を維持するため，反応ガスを各種金属酸化物（除去材），触媒の順で接触させ，触媒を通過した後のガス中の水素濃度経時変化を調べた．その結果，各種除去材がD5を反応ガス中から除去し，触媒の水素酸化率低下を抑制することがわかった．特に，ZrO2, メソ多孔体であるSBA-15やMCM-41は高いD5除去性能を示し，Si–O骨格にZr, Tiを組み込んだZr-SBA-15, Ti-SBA-15は新規な酸点が発現し，SBA-15の除去性能を向上した．Zr-SBA-15をコートしたハニカムのみを用いたD5除去試験において，ハニカムを通過したガス中に未分解のD5とCH4が検出された．ハニカムに流通させたD5と，未分解のD5とCH4でハニカム前後の炭素収支がほぼ100%となり，D5は加水分解して除去されていることを確認した．アレニウスプロットから加水分解反応の次数はD5濃度に対し一次であった．
収録刊行物
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- 化学工学論文集
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化学工学論文集 40 (2), 104-111, 2014
公益社団法人 化学工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204512918528
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- NII論文ID
- 130003392463
- 40020038550
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- NII書誌ID
- AN00037234
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BC2cXhtVSnsrnL
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- ISSN
- 13499203
- 0386216X
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- NDL書誌ID
- 025393880
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- 本文言語コード
- ja
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- 資料種別
- journal article
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- データソース種別
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- JaLC
- NDLサーチ
- Crossref
- CiNii Articles
- KAKEN
- OpenAIRE
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
