Modeling of reactive non-equilibrium plasmas

DOI
  • MAKABE Toshiaki
    Department of Electrical Engineering, Faculty of Science and Technology, Keio University

Bibliographic Information

Other Title
  • 反応性非平衡プラズマのモデリング

Abstract

人類の歴史において多くの技術がそうであったように,機能性薄膜の創製や半導体の微細加工技術も, 20世紀末の高度な錬金術(プラズマプロセシング)から生み出されてきた.今後さらに成熟した基盤技術へと発展するためには,新しい指導原理ともいうべき原料ガス分子の衝突断面積,遷移確率などの微視的物理・化学的特性にのみ立脚したプラズマプロセシングのモデリングが構築されねばならない. 90年代を迎え,計算機環境の改善と整備が進んでいる.このような社会状況のなかで,プラズマプロセシング用の非平衡RFプラズマはどのようにモデル化され,どのような事実を明らかにしてきたのだろうか.最近の発展を紹介し,今後の課題を明らかにしたい.

Journal

  • Oyo Buturi

    Oyo Buturi 60 (7), 663-673, 1991

    The Japan Society of Applied Physics

Keywords

Details 詳細情報について

  • CRID
    1390001204595199872
  • NII Article ID
    130003592877
  • DOI
    10.11470/oubutsu1932.60.663
  • ISSN
    21882290
    03698009
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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