偏光解析法と極薄膜の測定における問題点

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タイトル別名
  • Ellipsometry and Some Difficulties in the Measuements of Extremely Thin Films
  • ヘンコウ カイセキホウ ト キョク ハクマク ノ ソクテイ ニ オケル モンダ

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説明

偏光解析法は表面で光が反射される際の偏光状態の変化を計測し,表面の光学定数を求める方法で,大変感度の良い測定法である,しかし,薄膜の光学定数の解析において,膜が薄い場合にはその屈析率を単独に決定することが困難となる.また極薄膜では膜表面や下地のroughnessの影響を受けやすく,入射角の誤差による影響も受けやすい.<br> 備光解析法は表面の状態に敏感で大変高感度な測定法であるが,必ずしも高精度とは言いがたい.高精度の測定を行うには装置を精密に調整し,試料衷面に対する測定精度が最良となるように測定パラメーターの調整を工夫する必要がある.

収録刊行物

  • 応用物理

    応用物理 57 (12), 1868-1876, 1988

    公益社団法人 応用物理学会

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