ULSI用高純度ガス中の超微量不純物分析技術—大気圧イオン化質量分析計によるガス中超微量不純物分析技術—

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書誌事項

タイトル別名
  • Analysis of Trace Impurities in Highly Purfied Gases for ULSI Process

説明

半導体製造プロセスでは,多くのガスが使用されているが,今後の高集積デバイスでは,ガス中不純物のデバイス特性に与える影響を除去するために,ガスの超高純度化 (ppb～ppt) が重要といわれる.超高純度ガス供給システム実現には,超微量不純物を計測評価する技術が不可欠である.最近,この超微量不純物計測に対し,大気圧イオン化質量分析計 (APIMS) が着昌されており,すでに一部では利用されている.その結果,高純度ガスの分析評価装置として有望視され始めているので,本稿ではこのAPIMSにさいて紹介する.

収録刊行物

  • 応用物理

    応用物理 56 (11), 1466-1472, 1987

    公益社団法人 応用物理学会

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001204596531456
  • NII論文ID
    130003591925
  • DOI
    10.11470/oubutsu1932.56.1466
  • COI
    1:CAS:528:DyaL1cXksVOgtbo%3D
  • ISSN
    21882290
    03698009
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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