アモルファスシリコンの成長過程

  • 松田 彰久
    電子技術総合研究所薄膜シリコン系太陽電池スーパーラボ

書誌事項

タイトル別名
  • Growth process of amorphous silicon

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説明

モノシランプラズマCVD法におけるアモルファスシリコン薄膜の成長過程について,プラズマ中での電子励起反応種生成過程,定常状態形成過程,膜成長表面反応過程に分類して解説した.亡らに,作製された摸中のダングソングボンド欠陥密度決定表面反応についても考察した.

収録刊行物

  • 応用物理

    応用物理 68 (1), 57-61, 1999

    公益社団法人 応用物理学会

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001204596893056
  • NII論文ID
    130003593912
  • DOI
    10.11470/oubutsu1932.68.57
  • COI
    1:CAS:528:DyaK1MXis1ajug%3D%3D
  • ISSN
    21882290
    03698009
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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