化学気相成長（Chemical Vapor Deposition: CVD）法の基礎

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  • 関口 敦
    キヤノンアネルバ株式会社 現：工学院大学（八王子） 講師

書誌事項

タイトル別名
  • Fundamentals of Chemical Vapor Deposition Technologies
  • カガク キソウ セイチョウ(Chemical Vapor Deposition: CVD)ホウ ノ キソ

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説明

 本講座は化学気相成長（CVD）法の基礎に関して解説する．欠陥の少ない結晶成長や良好な被覆特性など，CVD 法を使用すると他の成膜方法では実現できない特長を得ることができる．実際にこの特長を得るためには，化学反応過程を解析し所定のプロセス条件で実施することが必要となる．本講座では CVD の定義から，この反応解析の手法と各プロセスの詳細に関して解説する．<br>

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