微細キャパシタ構造における抵抗変化メモリ(ReRAM)のフィラメント特性

  • 高 相圭
    鳥取大学電気電子工学科
  • 木下 健太郎
    鳥取大学電気電子工学科 鳥取大学電子ディスプレイ研究センター
  • 福原 貴博
    鳥取大学電気電子工学科
  • 岸田 悟
    鳥取大学電気電子工学科 鳥取大学電子ディスプレイ研究センター

書誌事項

タイトル別名
  • Memory Characteristics of Filaments in Tiny ReRAM Structure
  • ビサイ キャパシタ コウゾウ ニ オケル テイコウ ヘンカ メモリ(ReRAM)ノ フィラメント トクセイ

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抄録

  Clarification of memory characteristics of tiny cells is important for practical use of resistive random access memory (ReRAM). However, the limitation of semiconductor micro-fabrication technology hinders to obtain memory characteristics in tiny cell with an area comparable to the size of ReRAM filaments.<br>   In this paper, we established a method to prepare a very small memory cell by fabricating ReRAM structure on the tip of the cantilever of atomic force microscope (AFM). We also established a method to avoid the overshoot of set current. As a result, reset current was successfully reduced enough to suppress serious damage to the cantilever.<br>   The effective cell size was estimated to be less than φ 10 nm due to electric field concentration at the tip of the cantilever, which was confirmed by an electromagnetic field simulator based on finite element method.<br>

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