Preparation of biomimetic silicon surfaces using self-organized porous polymer films as novel dry etching masks
-
- Hirai Yuji
- Tohoku univ.
-
- Nakamichi Hirotaka
- Tohoku univ.
-
- Yabu Hiroshi
- Tohoku univ.
-
- Matsuo Yasutaka
- Hokkaido Univ.
-
- Ijiro Kuniharu
- Hokkaido Univ.
-
- Shimomura Masatsugu
- Tohoku univ.
Bibliographic Information
- Other Title
-
- 自己組織化ハニカムマスクを用いたバイオミメティック表面を有するシリコン基板の作製
Description
生物は、蓮の葉の撥水性や蛾の目の無反射表面等に代表されるような機能的な表面をもつ。これらの表面はナノからマイクロメートルに至る階層的な構造を特徴としている。生物が有する微細な階層構造を模倣した次世代バイオミメティクス材料が世界的に注目されている。高分子の湿式製膜過程における結露現象を利用して自己組織化的に作製されるハニカム状多孔質高分子フィルムをマスクとしてシリコンのドライエッチングをすると、撥水性と無反射性を併せ持つ階層的な突起構造が形成されることを見いだした。
Journal
-
- Proceedings of JIEP Annual Meeting
-
Proceedings of JIEP Annual Meeting 24 (0), 206-207, 2010
The Japan Institute of Electronics Packaging
- Tweet
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1390001205555645952
-
- NII Article ID
- 130005469615
-
- Text Lang
- ja
-
- Data Source
-
- JaLC
- CiNii Articles
-
- Abstract License Flag
- Disallowed