下地層を有する石英ガラス基板上へのZnO薄膜の作製とその結晶性
書誌事項
- タイトル別名
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- Preparation of ZnO thin films on under-layer deposited quartz glass substrates and their crystallinity
説明
現在、様々なデバイスなどへの応用が期待されているZnOは、六方晶系ウルツ鉱型の結晶構造を有するため、サファイアなどの単結晶基板を用いてその薄膜材料の結晶成長が行なわれている。ところで、石英ガラス基板は大面積、安価などの利点を有する基板材料であるが、単結晶基板を用いた場合に比べ、その上に作製されるZnO薄膜の結晶性は著しく劣る。ZnO薄膜を石英ガラス基板上に作製して各種デバイスなどへ応用しようとする場合には、可能な限りその薄膜の結晶性が良いことが望まれる。そこで本研究では、石英ガラス基板上にあらかじめ種々の下地薄膜を形成し、その上にZnO薄膜を成長させた場合の結晶性の変化について主に検討を行なった。
収録刊行物
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- 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
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日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2007F (0), 244-244, 2007
公益社団法人 日本セラミックス協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205615558912
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- NII論文ID
- 130006972442
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
