A low-temperature synthesis of ZnO thin films
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- Segawa Hiroyo
- Tokyo Institute of Technology
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- Izumi Reiko
- Mitsubishi Materials Corporation
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- Hayashi Toshiharu
- Mitsubishi Materials Corporation
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- Yano Tetsuji
- Tokyo Institute of Technology
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- Shibata Shuichi
- Tokyo Institute of Technology
Bibliographic Information
- Other Title
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- 溶液法による酸化亜鉛薄膜の作製
Abstract
酸化亜鉛は代表的なワイドギャップ半導体であり、透明導電膜や蛍光発光体として近年注目を集めている。とくに溶液法での合成は高温を必要とする通常のセラミックス合成プロセスとは異なり、低温で酸化亜鉛の直接合成が可能である。本研究では、低温での酸化亜鉛薄膜の合成を目的に、溶液法を用いた薄膜作製を行った。原料溶液のpHおよび原料組成の調整によって種々の形態の粒子が形成された。作製条件によっては、水酸化亜鉛や中間体の形成も確認された。低温での酸化亜鉛粒子の溶液法での作製方法を確立するとともに、前駆体溶液を利用することによって低温での薄膜作製条件を明らかにした。
Journal
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- Preprints of Annual Meeting of The Ceramic Society of Japan<br> Preprints of Fall Meeting of The Ceramic Society of Japan
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Preprints of Annual Meeting of The Ceramic Society of Japan<br> Preprints of Fall Meeting of The Ceramic Society of Japan 2007S (0), 536-536, 2007
The Ceramic Society of Japan
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205615908864
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- NII Article ID
- 130006973010
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed