酸化物熱電変換材料のエピタキシャル薄膜成長
書誌事項
- タイトル別名
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- Epitaxial Film Growth & Characterization of Oxide Thermoelectric Materials
抄録
熱電酸化物結晶を高品質エピタキシャル薄膜化することにより、薄膜熱電変換素子への応用展開が可能になるだけでなく、[1]無配向試料に比べてキャリア移動に対する粒界散乱の寄与度が減少するため、結晶固有のキャリア伝導機構を理解しやすく、[2]伝導キャリア濃度の高い（~1e+22 cm^-3）結晶のキャリア濃度や光吸収係数が容易に測定でき、[3]結晶固有の熱電パラメータ（化学ポテンシャル、有効質量、キャリア緩和時間など）を抽出することができるというメリットがある。本講演では、p型コバルト酸化物（NaxCoO2、SrxCoO2）及びn型チタン酸化物（SrTiO3:Nb）のエピタキシャル薄膜成長と熱電特性について紹介する。
収録刊行物
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- 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
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日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2005F (0), 15-15, 2005
公益社団法人 日本セラミックス協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205616526976
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- NII論文ID
- 130006974025
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可