Preparation and Evaluation of Silica Thin Films by Solventless Sol-gel Method

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  • 無溶媒ゾルゲル法によるシリカ薄膜生成と膜特性

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無溶媒ゾルの成長過程の解明はゾルゲル反応の理解とともにその後の成膜特性や粒子合成に及ぼす影響も含め重要な課題である。本研究では、無溶媒（超音波、もしくは攪拌法による）、及びアルコールを用いてシリコンアルコキシドを加水分解し、薄膜を生成した。縮合進行状況を動的光散乱法、29Si-NMR、及びラマン分光法により解析した。フーリエ変換赤外線分光法(FTIR)により、薄膜の構造を解析し、屈折率、透過率、及び鉛筆硬度との相関を評価した。無溶媒のゾルは加水分解が極めて速く進行し、結合数ユニットQ3,Q4を生成した。超音波により生成したゾルは最も成長速度が速く、薄膜特性も最も優れていた。膜中の有機物等の不純物が少なかったためと考えられる。

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  • CRID
    1390001205617266944
  • NII Article ID
    130006975219
  • DOI
    10.14853/pcersj.2006s.0.409.0
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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